正畸应用弱支抗时,磨牙前移占去的间隙至少为拔牙间隙的()
A.四分之一
B.三分之一
C.二分之一
D.三分之二
E.四分之三
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- · 有1位网友选择 B,占比12.5%
- · 有1位网友选择 D,占比12.5%
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A.四分之一
B.三分之一
C.二分之一
D.三分之二
E.四分之三
该患者矫治设计时,不用考虑
A.拥挤度
B.牙弓突度
C.支抗磨牙的前移
D.软组织侧貌
E.上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.拥挤度
B.牙弓突度
C.支抗磨牙的前移
D.软组织侧貌
E.上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.拥挤度
B. 牙弓突度
C. 支抗磨牙的前移
D. 软组织侧貌
E. 上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.拥挤度
B. 牙弓突度
C. 支抗磨牙的前移
D. 软组织侧貌
E. 上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.拥挤度
B. 牙弓突度
C. 支抗磨牙的前移
D. 软组织侧貌
E. 上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.无托槽隐形矫治器建立前牙覆合覆盖,下颌片切直立下前牙,正畸后前牙区美学修复
B.无托槽隐形矫治器调整弓形、排齐牙列,必要时下颌片切减小三角间隙
C.舌侧隐形矫治器排齐牙列,上下颌前牙区片切排齐
D.无托槽隐形矫治器推磨牙向远中建立前牙覆合覆盖
E.舌侧隐形矫治器排齐牙列改善突度,上下颌强支抗回收前牙、必要时应用种植支抗
A.拥挤度
B. 牙弓突度
C. 支抗磨牙的前移
D. 软组织侧貌
E. 上颌第一磨牙后移可利用的间隙
A.上下颌强支抗
B.上下颌中度支抗
C.上颌强支抗,下颌弱度支抗
D.上颌中度支抗,下颌弱支抗
E.上下颌弱支抗
A.上下颌强支抗
B. 上下颌中度支抗
C. 上颌强支抗,下颌弱度支抗
D. 上颌中度支抗,下颌弱支抗
E. 上下颌弱支抗
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