下面正确的说法是()。
A.二极管的雪崩击穿发生在掺杂浓度较大的PN结
B.二极管的齐纳击穿发生在掺杂浓度较小的PN结
C.二极管的雪崩击穿和齐纳击穿都是属于热击穿
D.二极管的雪崩击穿和齐纳击穿都是属于电击穿
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- · 有2位网友选择 A,占比22.22%
A.二极管的雪崩击穿发生在掺杂浓度较大的PN结
B.二极管的齐纳击穿发生在掺杂浓度较小的PN结
C.二极管的雪崩击穿和齐纳击穿都是属于热击穿
D.二极管的雪崩击穿和齐纳击穿都是属于电击穿
B、气相热媒总管压力低,对预缩聚釜影响最大
C、气相热媒总管压力低,对酯化釜影响最大
D、气相热媒总管压力低,对反应釜没有太大影响
B、工作在甲类状态的功率放大器,无信号输入时无功率损耗
C、工作在乙类状态的功率放大器,无信号输入时有功率损耗
D、工作在甲乙类状态的功率放大器,无信号输入时无功率损耗
B.651跟678表示不种故障的提示代码
C.错误678表示远程计算机没有响应
D.处理分光器主干光纤断裂的故障时需重绑端口才能恢复业务
B.占用一定数量的内存,是多线程的。
C.是执行在单一Java虚拟机中的WeblogiServer的实例。
D.以上全是。
A、二极管的势垒电容是指PN结反偏时,杂质正负离子区域形成的电容效应
B、二极管的扩散电容是指PN结正偏时,非平衡少子在P区和N区形成的电容效应
C、二极管在低频区工作时,可以忽略它的电容效应
D、二极管在高频区工作时,可以忽略它的电容效应
A、激发和复合是两个相反的物理过程
B、杂质半导体中有两种不同的激发形式,即本征激发和掺杂激发,其中掺杂激发是主要的激发形式
C、杂质半导体中只有掺杂激发过程,本征激发只发生在本征半导体中
D、N型半导体中杂质正离子是因为失去一个多余的电子而形成的
A、一般把PN结的结电容视为二极管的极间电容
B、硅二极管的反向电流小于锗二极管的反向电流
C、硅二极管的死区电压小于锗二极管的死区电压
D、二极管具有单向导电性,因此希望反向电流越小越好
A、在N型半导体内掺入足够的三价元素,可以将其改型为P型半导体
B、由于PN结交界面处有电位差,所以当把PN结两端短路时,就有电流流过
C、PN结的伏安特性方程可以描述死区、正向导通区、反向截止区和反向击穿区的特性
D、因为P型半导体的多子是空穴,少子是自由电子,因此P型半导体带正电
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