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提问人:网友18***469
发布时间:2022-01-07
[主观题]
综述金属的均匀形核过程: (1)证明临界晶核半径rk=2σ/△Gv; (2)证明rk=2σ/Lm△T: (3)证明临界形核功△Gk=Skσ/3: (4)均匀形核的条件是什么? (5)过冷度对形核率N有何影响?
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(1)在半径r处R1<r<R2=.厚度为dr,长为l的圆柱薄壳中任一点的电场能量密度和整个薄壳中的电场能量
(2)电介质中的总电场能量
(3)圆柱形电容器的电容
B.形核功是过冷液体形核时的主要障碍,过冷液体需要一段孕育期才开始结晶的原因正在于此。
C.若晶胚的半径大于r0,液、固两相体积自由能差值大于晶胚的表面能,驱动力大于阻力,晶胚就可以转变成为稳定晶核,而不再需要外界提供能量了。
D.过冷液相中的相起伏和结构起伏是形核的基础,任何一个晶核都是这两种起伏的共同产物。
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