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提问人:网友xiayan188
发布时间:2022-01-06
[主观题]
气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积
气相沉积技术工艺方法有
A真空蒸镀
B溅射镀
C离子镀
D化学气相沉积
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气相沉积技术工艺方法有
A真空蒸镀
B溅射镀
C离子镀
D化学气相沉积
A.设备简单,操作容易
B.所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快
C.生长机理简单
D.工艺重复性不够理想
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