题目内容
（请给出正确答案）
在高磁场中对哪种伪影影响更明显
A、化学位移伪影
B、卷褶伪影
C、截断伪影
D、交叉对称信号伪影
E、磁敏感性伪影
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下列哪种序列对磁场的不均匀性更加敏感，更容易产生磁敏感性伪影
A、SE
B、IR
C、GRE
D、FSE
E、EPI
关于化学位移，错误的是
A、化学位移可以引起局部磁场的改变
B、化学位移是磁共振波谱的基础
C、化学位移饱和成像可用来突出或抑制某种组织的信号
D、化学位移特性可消除化学位移伪影
E、利用不同原子核的化学位移，可以生成不同类型的图像
关于磁体系统的描述，错误的是
A、高场强中，对运动较敏感而更易产生伪影
B、磁场强度越高，组织的磁化强度越高，产生的磁共振信号强度越强
C、磁体成像区域越大，所能达到的磁场均匀度越低
D、磁场的强度是衡量磁场稳定性随时间而漂移程度的指标
E、在磁场的延伸范围内，电子仪器对磁场均匀度及其本身的磁场产生破坏作用
A.因有的信噪比较高
B.对磁场的不均匀性敏感
C.不易产生磁化率伪影
D.在相同的TE下，回波幅度高于SE序列
E.其横向磁化矢量明显慢于T2弛豫
关于磁场强度的描述，错误的是
A、磁场强度越高，组织的磁化强度越高，产生的磁共振信号强度越强
B、在一定范围内，磁场强度越高，产生的磁共振信号强度越强，影像信噪比越小
C、高场强中，化学移位伪影较明显
D、高场强中，对运动较敏感而更易产生伪影
E、磁场强度单位为特斯拉，1特斯拉=10000高斯
A.序列结构简单
B.图像具有良好和信 噪比和组织对比
C.适用于T1、T2和质子密度加权成像，采集时间短
D.对磁场不均匀的敏感性低
E.没有明显的磁化率伪影
A.SS-EPI的成像速度明显比MS-EPI快
B.SS-EPI的信噪比比MS-EPI高
C.SS-EPI中EPI常见的伪影较少
D.SS-EPI一般用于BOLD中
E.MS-EPI适用于对速度要求很高的功能成像
设备伪影不可能由下列哪种因素引起
A.机器主磁场强度
B.磁场均匀度
C.软件质量
D.磁体重量
E.附属设备
设备伪影不是由哪种因素引起
A.机器主磁场强度
B.磁场均勻度
C.软件质量
D.磁体重置
E.附属设备
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