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提问人:网友koffans 发布时间:2022-01-07
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特征尺寸是衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度,它主要是指集成电路的关键尺寸,常用单位是微米和 。

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第1题
集成度是标志集成电路水平的指标之一。
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第2题
以下关于MEMS概念的描述中,错误的是()。

A. 通过微细加工技术及微机械加工技术在半导体基板上制作的微型电子机械装置

B. 在微电子学中衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度是特征尺寸

C. 特征尺寸为1μm~10mm为小型机构

D. 特征尺寸为1nm~10μm为纳米机械

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第4题

什么是集成电路设计?集成电路的设计方法有哪些?

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第5题
简要说明你所理解的摩尔定律
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第6题
用于解决铝尖刺问题的方法主要有哪些?

A、重掺杂

B、硅化金属

C、阻挡金属

D、铝铜合金

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第7题
集成电路中常常用于插塞的金属是什么?

A、铝

B、铜

C、钨

D、钛

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第8题
二氧化硅的作用有哪些?

A、选择性扩散的掩蔽层

B、器件的保护和钝化层

C、隔离和绝缘介质

D、MOS管的绝缘栅材料

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第9题
二氧化硅作为选择性扩散的条件有哪些?

A、温度

B、浓度梯度

C、二氧化硅膜足够厚

D、杂质在二氧化硅中的扩散系数远远小于在硅中的扩散系数

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第10题
金属铝互连常常出现的问题是什么?

A、铝尖刺

B、电迁移

C、鸟嘴效应

D、沟道效应

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