正中无早接触，非正中有早接触，应磨

正中有早接触，非正中协调，应磨()

正中和非正中都存在早接触，应磨()

A. 牙尖或切缘

B. 舌窝或窝

C. 斜面

D. 切缘嵴

E. 上牙腭尖及下牙颊尖

A. ['['选磨正中早接触时，主要选磨与早接触支持尖相对应的近远中边缘嵴和中央窝

B. 选磨侧方干扰时，选磨非支持尖上的干扰点

C. 选磨侧方干扰时，如为尖牙的干扰通常以选磨上尖牙为主

D. 前伸不干扰时，如前牙接触而后牙不接触时，选磨以下前牙唇斜面为主

E. 前伸不干扰时，如后牙接触而前牙不接触时，选磨上牙尖的远中斜面或下牙尖的近中斜面

A. 未垫底

B. 充填体有早接触

C. 充填物折断

D. 垫底材料选择不当

E. 充填物在龈缘形成悬突

A. 上下颌牙接触面积过小

B. 人工牙面解剖形态差

C. 垂直距离过低

D. 义齿固位稳定性差

E. 患者合力过大

A.固定义齿

B.覆盖义齿

C.总义齿

D.可摘局部义齿

E.即刻义齿

A.腮腺混合瘤

B.腮腺淋巴瘤

C.腮腺囊肿

D.腮腺血管瘤

E.腮腺内慢性淋巴结炎

A.金黄色葡萄球菌

B.铜绿假单胞菌

C.草绿色链球菌

D.放线菌

E.克雷伯杆菌

A.颌内动脉

B.颌外动脉

C.舌动脉

D.面横动脉

E.甲状腺上动脉

A.微机械嵌合

B.化合键

C.螯合

D.氢键

E.范德华力

A.颊间隙

B.颞下间隙

C.颞深间隙

D.颞浅间隙

E.颌下间隙