PECVD就是利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的CVD技术。

A.LPCVD

B. PECVD

C. CVD

D. PVD

A.离子、电子

B. 中性原子

C. 分子

D. 自由基

A.脉冲激光沉积

B.金属有机化学气相沉积

C.溅射

D.等离子体增强化学气相沉积

A.激光放电

B.静电技术

C.变电站远程监控

D.等离子体技术

A.蒸镀

B. 离子注入

C. 溅射

D. 沉积

A.液相外延（LPE）法

B.化学气相沉积（CVD）法

C.等离子增强化学气相沉积（PECVD）法

D.低压化学气相沉积（LPCVD）

A.30-300

B.40-400

C.50-500

D.60-600