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提问人：网友andy123555 发布时间：2022-01-06
[单选题]

表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

A.分凝度

B. 固溶度

C. 分凝系数

D. 扩散系数

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匿名网友[52.***.***.42]选择了 D
1天前
匿名网友[138.***.***.201]选择了 D
1天前
匿名网友[225.***.***.236]选择了 C
1天前
匿名网友[41.***.***.38]选择了 A
1天前
匿名网友[130.***.***.131]选择了 A
1天前
匿名网友[11.***.***.73]选择了 C
1天前
匿名网友[133.***.***.160]选择了 D
1天前
匿名网友[169.***.***.11]选择了 B
1天前
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更多“表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。”相关的问题
第1题
二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。

A.降低

B. 增加

C. 不变

D. 先降低后增加

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第2题
当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。

A.温度

B. 硅-二氧化硅界面处的化学反应

C. 氧的扩散速率

D. 压力

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第3题
二氧化硅作为选择性扩散的条件有哪些？

A.温度

B.浓度梯度

C.二氧化硅膜足够厚

D.杂质在二氧化硅中的扩散系数远远小于在硅中的扩散系数

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第4题
固溶体合金在结晶时，溶质组元重新分布，在固液界面处形成溶质的浓度梯度，会产生成分过冷。
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第5题
热氧化反应一般发生在硅和二氧化硅的界面。
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第6题
在半导体生产中，常常采用的二氧化方式是干-湿-干氧化，湿氧氧化的作用是

A.得到较好的表面特性

B.较短的时间得到较厚的薄膜

C.较好的硅/二氧化硅界面特性

D.提高氧化膜的质量

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第7题
下面关于几种CVD方法描述正确的是（）。

A、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。

B、低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。

C、做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。

D、LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜。

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第8题
下列关于氢氟酸挥散法测二氧化硅量，说法不正确的是（）

A.该方法适合于二氧化硅含量大于95%硅质耐火材料分析

B.样品挥硅前需要经过高温灼烧，主要是为了消除样品中水分和有机物的干扰

C.由于样品挥硅后残渣变为盐类物质，引起检测结果偏高，属于系统误差

D.样品中二氧化硅含量越高，杂质越少，检测数据准确度越高

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第9题
硅钼黄光度法测定水中可溶性二氧化硅的原理为：在pH约为1.2时，钼酸铵与硅酸反应生成黄色可溶的（），在一定浓度范围内，其黄色深浅与二氧化硅的浓度成正比，于波长（）nm处测量吸光度，求得二氧化硅的浓度。
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