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提问人:网友Yry12345
发布时间:2022-01-07
[主观题]
在什么情况下,即使放射源尺寸较大,也可以获得质量较高的底片?()
A、用较多的铅作屏蔽
B、射源能量的大小允许采用较大的源至胶片距离
C、使用感光速度快的胶片
D、减少曝光时间
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A、用较多的铅作屏蔽
B、射源能量的大小允许采用较大的源至胶片距离
C、使用感光速度快的胶片
D、减少曝光时间
A. 其半衰期比放射性比活度低的源短
B. 其外形尺寸比放射性活度低的源小
C. 其外形尺寸比放射性活度低的源大
D. 其能量比放射性活度低的源大
A、小涎腺来源的软腭癌,其放射敏感性较高,放疗的根治剂量为DT60Gy
B、无上颈部淋巴结转移的高分化鳞癌,需行中下颈淋巴结的预防性照射
C、低分化或未分化癌,无论上颈有无淋巴结转移,双侧中下颈及锁骨上均需做预防照射
D、单侧上颈部淋巴结转移的高分化鳞癌,对侧中下颈区需行预防性照射
E、软腭癌常规大野照射至DT36Gy时避开脊髓,DT40Gy时缩野至软腭区
B、3.2mA·min
C、9mA·min
D、5.5mA·min
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