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提问人:网友18***590 发布时间:2022-01-07
[主观题]

半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→Si

半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→Si

半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:

(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→Si(s)+2CO(g)

(2)硅被氯氧化成四氯化硅:Si(s)+2Cl2(g)→SiCl4(g)

(3)四氯化硅被镁还原生成纯硅:SiCl4(g)+2Mg(s)→2MgCl2(s)+Si(g)

计算上述各反应的半导体工业生产单质硅的过程中有三个重要反应:(1)二氧化硅被还原为粗硅:SiO2(g)+2C(s)→(298K)和生产1.00kg纯硅的总反应热.

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第1题
求下列极限:

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第2题
求极限.(名词解释题)
求极限.

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第3题
半水合磷酸铡晶体受热时将失去结晶水,而得到无水磷酸镧在不同温度下该反应速率常数如表3—4.用
半水合磷酸铡晶体受热时将失去结晶水,而得到无水磷酸镧

在不同温度下该反应速率常数如表3—4.

用不同的方法计算该反应的活化能.

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第4题
将下列十进制数转换成二进制数、八进制数和十六进制数(精确到小数点后4位)。(1)29;(2)0.27;(3)33.33。

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第5题
以觉醒度改变为主的意识障碍有()。
A、嗜睡

B、昏睡

C、昏迷

D、谵妄

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第6题
苯和甲苯组成的溶液近似于理想溶液.试计算:(1)总压力为101.3kPa温度为92℃时,该体系汽液平衡的汽液相组成;(2)该体系达到汽液平衡时,液相组成x1=0.55,汽相组成y1=0.75.确定此时的温度与压力.(组分的Antoine方程常数见上题)

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第7题
证明:若(名词解释题)
证明:若

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