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提问人:网友sky2007 发布时间:2022-01-07
[单选题]

题3-3-2 以下对集成电路版图设计中几何设计规则描述不正确的是: 。

A.几何设计规则是版图图形编辑的依据

B.几何设计规则是设计系统生成版图的依据

C.几何设计规则是分析计算的依据

D.几何设计规则是检查版图错误的依据

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第2题
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第3题

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第4题
在我国,布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生,未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》保护。
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第5题
以下()不属于集成电路设计服务提供商的劣势
A、产品迭代快,产品压力大

B、技术门槛不高,缺乏产业护城河

C、规模难以做大

D、运营成本较高,资金压力大

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第6题
根据集成电路布图设计保护条例的规定,布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的,可以如何处理?

A.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申请行政复议

B.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申诉

C.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局请求复审

D.自收到通知之日起3个月内,向人民法院提起行政诉讼

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第7题
集成电路设计步骤
模拟集成电路设计中的第一步是()。

A.电路设计

B.版图设计

C.规格定义

D.电路结构选择

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第8题
题3-3-3 集成电路制造工艺中,二氧化硅膜不能用于: 。

A、元器件的组成部分(如栅氧化层)

B、源漏极

C、互连层间绝缘介质

D、作为掩蔽膜

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第9题
题3-3-4 集成电路制造工艺中,以下不是热氧化方法的是: 。

A、干氧氧化

B、湿氧氧化

C、离子氧化

D、水蒸汽氧化

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