刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（)是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（)是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。

A、优级纯、分析纯、化学纯

B、光谱纯、分析纯、化学纯

C、优级纯、光谱纯、化学纯

D、优级纯、分析纯、光谱纯

此题为判断题(对，错)。

我国对分析纯的通用标记（）

我国对化学纯的通用标记（）

我国对实验试剂的通用标记（）

A. 以"GR"标记

B. 以"AR"标记

C. 以"CP"标记

D. 以"LR"标记

E. 以"AAA"标记

什么是干法刻蚀？干法刻蚀相比于湿法腐蚀的优点有哪些？

什么是干法刻蚀？什么是湿法腐蚀？两者所形成的刻蚀剖面有何区别？

A、替位式扩散

B、间隙式扩散

C、自由式扩散

D、恒定扩散