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提问人：网友文旻昊发布时间：2022-01-07

[主观题]

硅片清洗是半导体器件制造中最重要最频繁的步骤，其效率将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性。（)

此题为判断题(对，错)。

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第1题

()是影响硅器件的成品率的一个重要因素，也是影响器件性能的稳定性和可靠性的重要因素。

A.点缺陷

B. 线缺陷

C. 面缺陷

D. 微缺陷

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第2题

沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。

A.功能

B. 成品率

C. 物理性能

D. 电学性能

E. 外观

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第3题

半导体器件对敏感，这会导致器件性能的不稳定。

A.温度

B.光照

C.温度和光照

D.掺杂浓度

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第4题

硅片的直径大小，芯片尺寸的增加、工艺步骤的增加，特征尺寸的减小和工艺的成熟性都直接影响到成品率。

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第5题

金属氧化物半导体场效应管是集成电路中最重要的单极器件。

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第6题

晶体管是电流控制型半导体器件，而场效应晶体管则是电压控制型半导体器件。此题为判断题(对，错)。

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第7题

用()制造的半导体器件，耐高温和抗辐射性能较好，特别适宜制作光伏器件和大功率器件。

A.锗

B.硅

C.硒

D.硼

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第8题

用()制造的半导体器件，耐高温和抗辐射性能较好，特别适宜制作光伏器件和大功率器件。

A.硒

B.硼

C.锗

D.硅

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第9题

单极型器件是仅依靠单一的多数载流子导电的半导体器件。此题为判断题(对，错)。

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第10题

用来制造MOS器件最常用的是（100）面的硅片，这是因为（100）面的表面状态更有利于控制MOS器件开态和关态所要求的阈值电压。

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