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提问人:网友wsliujun 发布时间:2022-01-07
[主观题]

在杂质浓度杂质[图]的样品中,载流子迁移率随温度的变...

在杂质浓度杂质在杂质浓度杂质[图]的样品中,载流子迁移率随温度的变...在杂质浓度杂质的样品中,载流子迁移率随温度的样品中,载流子迁移率随温度的变化,以下描述正确的是?

A、低温下,电离杂质散射起主要作用

B、常温下,晶格振动散射起主要作用

C、低温下,光学支散射起主要作用

D、低温下,声学支散射起主要作用

E、常温下,电离杂质散射起主要作用

F、常温下,合金散射起主要作用

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更多“在杂质浓度杂质[图]的样品中,载流子迁移率随温度的变...”相关的问题
第1题
迁移率与杂质浓度和温度的关系为:

A.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大。

B.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小。

C.若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降。

D.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小。

E.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大。

F.杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值。

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第2题
迁移率与杂质浓度和温度的关系为:()。

A.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

B.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

C.若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降

D.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

E.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

F.杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值

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第3题
迁移率
与杂质浓度和温度的关系为:()。

A、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

B、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

C、若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降

D、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小

E、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大

F、杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值

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第4题
以下说法正确的是

A.迁移率随着杂质浓度的增加而增加

B.电阻率与杂质浓度成反比

C.漂移运动是指浓度差作用下的载流子运动

D.载流子的漂移速度只和温度及杂质浓度有关

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第5题
在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()

A.晶体缺陷

B.杂质浓度

C.温度

D.掺杂工艺

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第6题
在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()。

A.温度

B.掺杂工艺

C.杂质浓度

D.晶体缺陷

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第7题
以下关于杂质的描述正确的是

A、半导体中的杂质会局部的破坏晶格的周期性势场,引起载流子的散射。

B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率。

C、中性杂质不会对半导体产生影响。

D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和。

E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差。

F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体。

G、杂质会在半导体的禁带中引入能级。

H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷。

I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心。

J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金。

K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用。

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第8题
在杂质半导体中,多数载流子的浓度取决于();当杂质浓度一定时,少数载流子的浓度与()有关。

A.掺杂种类

B.掺杂浓度

C.温度

D.电压

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第9题
以下关于杂质的描述正确的是()。
A、半导体中的杂质会局部的破坏晶格的周期性势场,引起载流子的散射

B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率

C、中性杂质不会对半导体产生影响

D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和

E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差

F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体

G、杂质会在半导体的禁带中引入能级

H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷

I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心

J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金

K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用

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