在杂质浓度杂质[图]的样品中,载流子迁移率随温度的变...
在杂质浓度杂质的样品中,载流子迁移率随温度的变化,以下描述正确的是?
A、低温下,电离杂质散射起主要作用
B、常温下,晶格振动散射起主要作用
C、低温下,光学支散射起主要作用
D、低温下,声学支散射起主要作用
E、常温下,电离杂质散射起主要作用
F、常温下,合金散射起主要作用
在杂质浓度杂质的样品中,载流子迁移率随温度的变化,以下描述正确的是?
A、低温下,电离杂质散射起主要作用
B、常温下,晶格振动散射起主要作用
C、低温下,光学支散射起主要作用
D、低温下,声学支散射起主要作用
E、常温下,电离杂质散射起主要作用
F、常温下,合金散射起主要作用
A.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大。
B.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小。
C.若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降。
D.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小。
E.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大。
F.杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值。
A.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大
B.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小
C.若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降
D.若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小
E.若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大
F.杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值
A、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大
B、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小
C、若温度确定,杂质浓度增大时,电子与空穴的多子、少子迁移率都单调下降
D、若电离杂质散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而减小
E、若晶格振动散射为主要散射机构,则迁移率随温度升高而增大
F、杂质浓度较高时,电子的多子和少子迁移率趋近于相同的值
A、半导体中的杂质会局部的破坏晶格的周期性势场,引起载流子的散射。
B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率。
C、中性杂质不会对半导体产生影响。
D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和。
E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差。
F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体。
G、杂质会在半导体的禁带中引入能级。
H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷。
I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心。
J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金。
K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用。
B、电离的杂质会引起载流子的散射,从而影响载流子的迁移率
C、中性杂质不会对半导体产生影响
D、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于所有的杂质都会破坏晶格周期性势场,所以对载流子迁移率的影响是两种杂质浓度之和
E、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,由于杂质的补偿作用,对载流子浓度的影响是两种杂质浓度之差
F、如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,而且施主杂质浓度等于受主杂质浓度,由于杂质的补偿作用,该半导体材料属于本征半导体
G、杂质会在半导体的禁带中引入能级
H、如果杂质能级较浅,则杂质易于电离,可为半导体提供导电的载流子或改变半导体的导电类型,如掺入硅中的磷
I、如果杂质能级较深,则杂质不易于电离,可能形成复合中心或陷阱中心
J、如果杂质能级(深能级)的位置在EF附近,该杂质可有效促进载流子的复合,缩短非平衡载流子的寿命,起复合中心的作用,如掺入硅中的金
K、如果杂质能级(深能级)的位置在Ei附近,该杂质可暂时收容非平衡载流子,延长了非平衡载流子的寿命,起陷阱中心的作用
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