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提问人：网友orioner 发布时间：2022-01-07
[单选题]

下列可用于非晶体金属薄膜制备的方法是（）

A.液态骤冷工艺

B.离子溅射

C.电解沉积

D.蒸发镀

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匿名网友[127.***.***.181]选择了 A
1天前
匿名网友[93.***.***.162]选择了 A
1天前
匿名网友[161.***.***.241]选择了 A
1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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更多“下列可用于非晶体金属薄膜制备的方法是（）”相关的问题
第1题
下列加工工艺中，利用金属离子阴极沉积方法来进行成形加工的方法是（）

A.离子束加工

B. 电解加工

C. 等离子体加工

D. 电刷镀

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第2题
最常用的金属薄膜制备方法有

A.电阻加热蒸发

B.电子束蒸发

C.溅射

D.热氧化

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第3题
气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积

气相沉积技术工艺方法有

A真空蒸镀

B溅射镀

C离子镀

D化学气相沉积

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第4题
下面那一种薄膜工艺中底材会被消耗（）。

A.薄膜沉积

B. 薄膜成长

C. 蒸发

D. 溅射

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第5题
溅射与蒸镀比较，下列那种说法正确：

A.溅射工艺薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好

B.蒸镀工艺薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好

C.蒸镀工艺的普适性更好

D.溅射工艺的普适性更好

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第6题
常见的PVD薄膜制备方法包括

A.热氧化

B.蒸发

C.溅射

D.刻蚀

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第7题
（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。

A.蒸镀

B. 离子注入

C. 溅射

D. 沉积

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第8题
TFT-LCD制备工艺中使用的PVD工艺是（）？

A.真空蒸发镀膜

B.溅射镀膜

C.离子镀膜

D.化学气相沉积镀膜

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第9题
以下各项不属于最常用的金属薄膜制备（Metal Film preparation）方法有：

A、PVD（物理气相淀积）

B、Sputtering（溅射）

C、Thermal Oxidation（热氧化）

D、Evaporation（蒸发）

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第10题
（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。

A.PVD

B. CVD

C. 溅射

D. 蒸发

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