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提问人:网友liudptl 发布时间:2022-01-07
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CVD反应器的冷壁反应器只加热硅片和硅片支持物。

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更多“CVD反应器的冷壁反应器只加热硅片和硅片支持物。”相关的问题
第1题
生物芯片固相支持物不能用()。A、硅片B、玻璃片C、塑料片D、滤纸片E、尼龙膜

生物芯片固相支持物不能用()。

A、硅片

B、玻璃片

C、塑料片

D、滤纸片

E、尼龙膜

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第2题
APCVD反应器中的硅片通常是平放在一个平面上。
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第3题
通过加热,使待淀积的金属原子获得足够的能量,脱离金属表面蒸发出来,在飞行途中遇到硅片,就淀积在硅表面,形成金属薄膜,该工艺过程是

A.CVD

B.氧化

C.蒸发

D.溅射

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第4题
清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和
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第5题
“要向硅片挑战,DNA还有很长的路要走”的意思是()。

A.DNA的计算速度远远落后于硅片

B.硅片的工作效率低于DNA

C.DNA的配置不如硅片

D.DNA蕴含的信息不如硅片蕴含的信息多

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第6题
硅片翘曲度(Warp) 名词解释

硅片翘曲度(Warp) 名词解释

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第7题
立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所,它由垂直的()、()和()组成。
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第8题
制造电子器件的基本半导体材料是圆形单晶薄片,称为硅片或()。在硅片制造厂,由硅片生产的半导体产品,又被称为()或()。
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第9题
电子束蒸发比电阻丝加热蒸发设备,多出的部件为: 。

A.偏转电子枪

B.灯丝

C.硅片

D.磁场

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第10题
扩散装片是指用吸笔依次将硅片从硅片盒中取出,插入______

A.扩散炉

B.石英舟

C.硅片框

D.周转箱

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