霍夫曼重排反应中，迁移基团的构型不发生变化。

此题为判断题(对，错)。

A、吸附和扩散过程

B、形成配合物和吸附过程

C、扩散、质体流动和吸附过程

D、吸附和质体流动过程

A.性格

B.气质

C.能力

D.情感和态度

A．在被试内设计中不会发生

B．与加工水平理论是相同的

C．在被试间设计中不会发生

D．强调编码操作效应依赖于信息怎样呈现给被试

A、在光照条件下，[2+2]同面/同面环加成对称性禁阻的。

B、在加热条件下，[2+2]同面/同面环加成对称性是允许的。

C、在光照条件下，[4+2]同面/同面环加成对称性是允许的。

D、在加热条件下，[4+2]同面/同面环加成对称性是允许的。

A、醛酮羰基的保护可以用乙二醇在干燥的氯化氢条件下回流生成缩醛酮的形式

B、氨基的保护一般用乙酰化保护

C、羧基的保护可以先转化成酯

D、羟基的保护可以通过氧化还原反应保护

A、原材料简单、易得

B、合成、分离步骤尽可能的少或者简单

C、合成、分离步骤得率尽可能的高

D、只要能合成出来就行

关于下列反应式的说法，正确的是

A、（1）光照，对旋；（2）加热，顺旋

B、（1）加热，对旋；（2）光照，顺旋

C、（1）光照，顺旋；（2）加热，对旋

D、（1）加热，顺旋；（2）光照，对旋

A、A. (1) 为加热，（2）为取代烯丙基重排到对位的取代酚，同位素标记的C与苯环直接相连。

B、A. (1) 为加热，（2）为取代烯丙基重排到邻位的取代产物，同位素标记的C与苯环直接相连。

C、(1) 为光照，（2）为取代烯丙基重排到对位的取代酚，同位素标记的C不与苯环直接相连。

D、(1) 为光照，（2）为取代烯丙基重排到邻位的取代酚，同位素标记的C不与苯环直接相连。

A、Hofmann降解反应

B、卤仿反应

C、芳醛的Perkin 反应

D、烯的臭氧化还原水解