题目内容
（请给出正确答案）
提问人：网友maxile
发布时间：2022-01-07
[主观题]
液相生长单晶的基本原理。 简述什么是单晶材料及其特点，并举例说明一种单晶材料的制备方法及应用。
简答题官方参考答案
（由简答题聘请的专业题库老师提供的解答）
抱歉！暂无答案，正在努力更新中……
网友您好，请在下方输入框内输入要搜索的题目：
搜题
题目内容
（请给出正确答案）
简答题官方参考答案
（由简答题聘请的专业题库老师提供的解答）
抱歉！暂无答案，正在努力更新中……
更多“液相生长单晶的基本原理。 简述什么是单晶材料及其特点，并举例说明一种单晶材料的制备方法及应用。”相关的问题
第3题
正确的框图简要说明硅片制备主要工艺流程是（）
A.单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包
B.单晶生长→切片→整形→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包
C.单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→抛光→蚀刻→硅片检测→打包
D.单晶生长→整形→蚀刻→抛光→硅片检测→切片→晶片研磨及磨边→打包
第4题
正确的框图简要说明硅片制备主要工艺流程是（）
A. 单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包
B. B.单晶生长→切片→整形→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包
C. C.单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→抛光→蚀刻→硅片检测→打包
D. D.单晶生长→整形→蚀刻→抛光→硅片检测→切片→晶片研磨及磨边→打包
第7题
第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致（)及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
点击查看答案
