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提问人:网友Chenshan2019 发布时间:2022-01-07
[单选题]

非晶硅的禁带宽度为()。

A.2.12eV

B.1.12eV

C.1.6eV

D.1.5eV,并且在一定程度上可调

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匿名网友[126.***.***.248]选择了 B
1天前
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1天前
匿名网友[195.***.***.137]选择了 B
1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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更多“非晶硅的禁带宽度为()。”相关的问题
第1题
氢化非晶硅的禁带宽度可调,含氢量增加,禁带宽度();在非晶硅中掺入Ge元素,其禁带宽度()。
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第2题
非晶硅的禁带宽度比单晶硅大,这样制成的非晶硅太阳电池的()相对较高。

A.转换效率

B.短路电流

C.填充因子

D.开路电压

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第3题
温度为300K的本征硅半导体载流子浓度为,禁带宽度为1.12eV,计算掺入硼原子后硅中电子浓度为()

A.

B.

C.

D.

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第4题
温度为300K的本征硅半导体载流子浓度为,禁带宽度为1.12eV,计算掺入硼原子后硅中空穴浓度为()

A.

B.

C.

D.

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第5题
微晶硅与非晶硅两种薄膜材料的区别主要表现在()

A.微晶硅比非晶硅具有更好的结构有序性;

B.微晶硅在可见光波段的吸收系数比非晶硅的低;

C.微晶硅光学带隙比非晶硅的光学带隙低得多。

D.以上都对

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第6题
室温下,硅的禁带宽度分别是 。
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第7题
多结硅基薄膜太阳能电池中最简单,并且目前大规模生产中被广泛采用的是()双结电池。

A.非晶硅/非晶硅双结

B.非晶硅/微晶硅双结

C.微晶硅/非晶硅双结

D.微晶硅/微晶硅双结

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第8题
以下关于半导体能带特征描述正确的是()

A.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

B.室温下,锗的禁带宽度约为0.67eV,是直接带隙半导体

C.室温下,砷化镓的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

D.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是间接带隙半导体

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第9题
硅晶体的禁带宽度为1.2eV。适量掺入磷后,施主能级和硅的导带底的能级差为△ED=0.045eV。试计算此掺杂半导体能

硅晶体的禁带宽度为1.2eV。适量掺入磷后,施主能级和硅的导带底的能级差为△ED=0.045eV。试计算此掺杂半导体能吸收的光子的最大波长。

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第10题
锗的禁带宽度比硅大,所制作的器件比硅耐高温。
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