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提问人:网友ywywang 发布时间:2022-01-06
[单选题]

集成电路的主要制造流程是()

A.硅抛光片——晶圆——芯片——集成电路——成品测试

B. 硅抛光片——芯片——晶圆——成品测试——集成电路

C. 晶圆——硅抛光片——芯片——成品测试——集成电路

D. 硅抛光片——芯片——晶圆——集成电路——成品测试

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匿名网友[75.***.***.17]选择了 A
1天前
匿名网友[247.***.***.103]选择了 A
1天前
匿名网友[46.***.***.193]选择了 A
1天前
匿名网友[1.***.***.71]选择了 B
1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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第1题
集成电路的主要制造流程是()

A.硅抛光片——晶圆——芯片——集成电路——成品测试

B.硅抛光片——芯片——晶圆——成品测试——集成电路

C.晶圆——硅抛光片——芯片——成品测试——集成电路

D.硅抛光片——芯片——晶圆——集成电路——成品测试

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第2题
集成电路的主要制造流程是()

A.硅抛光片-晶圆-片-成品测试-集成电路

B.晶圆-硅抛光片-成品测试-芯片-集成电路

C.硅抛光片-芯片-晶圆-成品测试-集成电路

D.硅片=芯片=成品测试-晶圆-集成电路

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第3题
半导体集成电路是微电子技术的核心。下面有关集成电路的叙述中错误的是()。A.集成电路有小规模、中

半导体集成电路是微电子技术的核心。下面有关集成电路的叙述中错误的是()。

A.集成电路有小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等多种,嵌入式处理器芯片一般属于大规模集成电路

B.集成电路的制造大约需要几百道工序,工艺复杂且技术难度非常高

C.集成电路大多在硅衬底上制作而成,硅衬底是单晶硅锭经切割、研磨和抛光而成的圆形薄片

D.集成电路中的电路及电子元件,需反复交叉使用氧化,光刻,掺杂和互连等工序才能制成

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第4题
微电子技术特别是集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路的叙述中错误的
是()。

A.集成电路的特点是体积小、重量轻、可靠性高

B.集成电路大多是在硅衬底上制作而成的

C.集成电路的制造工艺复杂且技术难度非常高,许多工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成

D.集成电路的工作速度主要取决于电路结构和工作电压的高低,与电路元件的尺寸无关

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第5题
CMOS集成电路芯片制造的基底材料是硅。
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第6题
世界上第一块集成电路是用硅半导体材料作为衬底制造的。
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第7题
集成电路制造,采用的主要原料是_____

A.半导体硅

B.半导体锗

C.二氧化硅

D.其他金属

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第8题
硅平面工艺的发明使集成电路的制造成为可能。
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第9题
计算机集成电路芯片制造的主要原料是(),它是一种可以在沙子中提炼出的物质

A.铝

B.铜

C.锗

D.硅

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第10题
在集成电路制造过程中,刻蚀通常是在()之后进行的,刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。

A.抛光

B.光刻

C.显影

D.涂胶

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