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提问人:网友zcmtmxk 发布时间:2022-01-07
[单选题]

晶体管分为三个掺杂区,发射区的特点是掺杂浓度,基区的特点是区域很薄,掺杂浓度,集电区的特点是掺杂浓度较低,但面积大。

A.高;低

B.高;高

C.低;低

D.低;高

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第1题
三极管内部结构具有()的特点。A. 集电区掺杂浓度较大B....

三极管内部结构具有()的特点。

A. 集电区掺杂浓度较大

B. 发射区的掺杂浓度远大于基区的掺杂浓度

C. 基区非常薄

D. 集电结的面积比发射结的面积大

E. 集电区掺杂浓度较小

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第2题
下列有关晶体管的说法中,正确的是 。A、发射区的掺杂浓...

下列有关晶体管的说法中,正确的是 。

A、发射区的掺杂浓度小于集电区

B、基区很薄,掺杂浓度较大

C、基区与集电区的接触面积较大

D、发射极与集电极可以互换

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第3题
在双极型晶体管中,提高集电区掺杂浓度可以抑制:()。
A、集电区穿通效应

B、Early效应

C、基区穿通效应

D、Webster效应

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第4题
引起晶体管基区宽度调制效应的主要原因是()。
A、发射结正偏电压变化

B、集电结反偏电压变化

C、基区少子浓度梯度变化

D、发射结势垒宽度变化

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第5题
无论是NPN型管还是PNP型管,它们内部均含有三个区,即发...

无论是NPN型管还是PNP型管,它们内部均含有三个区,即发射区、基区和()。

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第6题
下面哪一种方法是不能提高npn晶体管的发射效率()。
A、提高发射区的掺杂浓度

B、采用宽禁带基区材料

C、减小基区掺杂浓度

D、减少发射结复合电流

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第7题
以下措施中,不能提高晶体管截止频率的一项是()。
A、采用离子注入工艺降低晶体管的基区宽带Wb

B、降低基区两端杂质浓度比以提高电场因子

C、减小发射结和集电结面积以减小电容

D、适当降低集电区电阻率和厚度

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第8题
三极管 区的掺杂浓度最高、 区最薄、 区面积最大。...

三极管 区的掺杂浓度最高、 区最薄、 区面积最大。

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第9题
平面双极型晶体管的实际工艺中,基区的掺杂采用杂质总量不变的方法而形成的分布是()。
A、均匀分布

B、线性分布

C、高斯分布

D、余误差分布

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第10题
晶体三极管的基区一般做得很薄,且掺杂很轻,多数载流子...

晶体三极管的基区一般做得很薄,且掺杂很轻,多数载流子的浓度很高。

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