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提问人：网友singleboygg 发布时间：2022-01-06
[单选题]

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）

A.物理气相沉积法；

B. 化学气相沉积法；

C. 气相法；

D. 固相法

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匿名网友[94.***.***.73]选择了 A
1天前
匿名网友[53.***.***.101]选择了 D
1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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第1题
涂层刀具已成为现代切削刀具的标志，在刀具中的使用比例已超过50﹪。目前生产上常用的涂层方法有物理气相沉积法（PVD）和化学气相沉积法（CVD）两种（）
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第2题
涂层刀具已成为现代切削刀具的标志，在刀具中的使用比例已超过50﹪。目前生产上常用的涂层方法有物理气相沉积法（PVD）和化学气相沉积法（CVD）两种（）
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第3题
C/C复合材料被认为可用于制造推重比20-30发动机的热端部件。其制备工艺不包括下列哪种方法？（)

A.CVD

B.液相浸渍法

C.PVD

D.CVD和液相浸渍法

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第4题
磁控溅射法属于下列哪类半导体薄膜的制备方法

A.物理气相沉积（PVD）

B.化学气相沉积（CVD）

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第5题
题3-3-1 集成电路制造工艺中，不能制备二氧化硅薄膜的方法是： 。

A.热氧化

B.CVD

C.PVD

D.热扩散

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第6题
气相沉积法包括物理气相沉积法PVD和化学气相沉积法CVD。（)
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第7题
下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。

A.ARC可以是硅的氮化物

B. 可用干法刻蚀除去

C. ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成

D. ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层

E. ARC膜也可以通过CVD的方法形成

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第8题
不需加热的模具表面镀覆方法是（）

A.CVD

B.PVD

C.TD

D.EVD

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第9题
不需加热的模具表面镀覆方法是（）。

A.CVD

B. PVD

C. TD

D. EVD

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第10题
（）是制备纳米多层膜的主要方法。

A.原子层淀积（ALD）

B.物理气相淀积（PVD）

C.化学气相淀积(CVD)

D.磁控溅射

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