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提问人:网友xun1xun 发布时间:2022-01-07
[单选题]

通常掩膜氧化采用的工艺方法为:

A.掺氯氧化

B.干氧

C.干氧-湿氧-干氧

D.低压氧化

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更多“通常掩膜氧化采用的工艺方法为:”相关的问题
第1题
工业过氧化氢中总碳的测定采用的方法为()。
A、酸碱滴定

B、气体吸收法

C、红外气体分析仪

D、电化学方法

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第2题
铝及其合金工件进行硬质阳极氧化时,为了满足工艺要求的低温条件,通常采用制冷降温和强烈搅拌的办法。()

此题为判断题(对,错)。

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第3题
伯醇可以被氧化成醛,还能进一步氧化成酸。
点击查看答案
第4题
热敏性或易氧化的物料结晶时采用的方法是____。
A、冷却结晶

B、蒸发结晶

C、升华结晶

D、熔融结晶

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第5题
关于氧化速率下面哪种描述是正确的:

A、生长非常薄(<十几nm)的栅氧化层时,氧化速率服从线性规律>

B、温度升高氧化速率迅速增加

C、(111)硅比(100)硅氧化得快

D、有杂质(如Na、P等)存在,氧化速率降低

E、生长的氧化层较薄时,氧化速率服从线性规律

F、生长的氧化层较厚时,氧化速率服从线性线规律

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第6题
制作一硅晶体管芯片,在最后用热氧化方法制备了一层SiO2作为保护层。
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第7题
热氧化速率快慢排序: 氧化最快、 氧化次之、 氧化最慢。 (从“干氧、湿氧、水汽”中选择填空,中间用“、”隔开)
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第8题
热氧化过程中杂质在SiO2/Si界面的浓度是突变的,这是由杂质 引起的。(两个字)
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第9题
[图]A、图(a)是限定源扩散,图(b)恒定源扩散B、图(a)、(b)...

A、图(a)是限定源扩散,图(b)恒定源扩散

B、图(a)、(b)都是限定源扩散

C、图(a)、(b)都是恒定源扩散

D、图(a)是恒定源扩散,图(b)限定源扩散

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第10题
扩散掺杂,扩散区要比掩膜窗口尺寸 ,这是 效应引起的,它直接影响超大规模集成电路的集成度。

A、大,横向扩散

B、小,横向扩散

C、大,场助扩散

D、大,氧化增强

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