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提问人：网友154336271 发布时间：2022-09-18
[判断题]

退火的原理是通过高温使硅片表面生长一层薄的二氧化硅层，改善硅片应力，使替位氧原子成为间隙氧沉淀（）

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1天前
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第1题
解决沟道效应的方法有

A.退火

B.将硅片倾斜一定的角度

C.在洁净硅表面铺一层非晶物质

D.破坏表面硅原子的结构

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第2题
在纯铜圆柱体一个顶端电镀一层薄的放射性同位素铜。在高温退火20h后，对铜棒逐层剥层测量放射性强度a（a正比于

在纯铜圆柱体一个顶端电镀一层薄的放射性同位素铜。在高温退火20h后，对铜棒逐层剥层测量放射性强度a(a正比于浓度)，数据如下：

距顶端距离x/cm0.10.20.30.40.5
a(任意单位)5012398125121413524.8

求铜的自扩散系数。

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第3题
对于烧结工艺流程，以下说法正确的是（）

A.低温区主要是一个浆料有机溶剂和有机粘合剂被蒸发和被燃烧

B.中温阶段主要是玻璃体开始融化，银颗粒开始聚合

C.高温阶段主要是银、硅、玻璃体开始发生反应，形成银硅合金

D.冷却主要是玻璃体在硅片表面结晶生长

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第4题
将研具表面嵌入磨料或敷涂磨料并添加润滑剂，在一定压力作用下，使研具与工件接触并作相对运动，通过磨料作用，从件表面切去一层极薄的切屑，使工件具有精确尺寸、准确几何形状和较低表面粗糙度，这种对表面进行最终精密加工的方法叫（）

A.研磨

B. 磨削

C. 表面处理

D. 抛光

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第5题
将研具表面嵌入磨料或敷涂磨料并添加润滑剂，在一定压力作用下，使研具与工件接触并作相对运动，通过磨料作用，从件表面切去一层极薄的切屑，使工件具有精确尺寸、准确几何形状和较低表面粗糙度，这种对表面进行最终精密加工的方法叫（）

A.研磨

B.磨削

C.表面处理

D.抛光

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第6题
离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。
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第7题
釉面玻璃是指在按一定尺寸切裁好的玻璃表面涂敷一层 ，经过烧结，退火或钢化等热处理，使 釉层与玻璃牢固结合，制成的具有美丽的色彩或图案的玻璃。
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第8题
利用气体 混合的化学反应在硅片表面淀积一层固体薄膜的工艺过程是
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第9题
涂胶的目的是在硅片表面得到一层均匀覆盖的具有一定厚度的光刻胶薄膜。
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第10题
叶片的冷却方式有对流冷却、（）、（）。其中（）是指在叶片的表面形成一层冷却空气的薄膜，使叶片表面与高温燃气隔开，同时又冷却叶片。
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第11题
暴露在高温的氧气氛围中，硅片上能生长出氧化硅。生长一词表示这个过程实际是消耗了硅片上的硅材料。
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