硅的禁带宽度Eg=1.1eV,当掺入少量杂质磷(△ED=0.045eV)后,产生一杂质能级,试画出这一杂质半导体的能带图?并分别求出该杂质半导体的本征吸收与杂质吸收的长波限?
禁带宽度的大小决定着()的难易,一般半导体材料的禁带宽度越宽,所制作的半导体器件中的载流子就越不易受到外界因素,如高温和辐射等的干扰而产生变化。
一n型半导体样品中复合中心能级Et在导带底Ec之下Eg/3处(Eg为禁带宽度),设τp和τn分别为空穴和电子的寿命且在同样数量级并与温度无关。试根据复合中心理论讨论寿命τ与温度T关系,并根据得出的结论说明确定复合中心能级位置的方法。
A.越不容易受
B.越容易受
C.基本不受
A、材料吸收光子而产生电子-空穴对,使导电性能加强,电导率增加。
B、导带中的电子受到能量大于或等于禁带宽度的光子轰击,并使其由导带越过禁带跃入价带,从而使电导率变大。
C、价带中的电子受到能量大于或等于禁带宽度的光子轰击,并使其由价带越过禁带跃入导带,从而使电导率变大,电阻率减少。
D、无
由一块本征半导体锗,测得如下数据:
T(K) 333 385 455 566 714
σ(1/Ω·cm) 7.4 36 164 770 4400
求锗的禁带宽度。假设Eg与温度无关,空穴与电子的迁移率与温度的关系为μ=常数×T-3/2。
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