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提问人:网友xiaozhan06 发布时间:2022-01-07
[单选题]

1光刻技术的主要步骤包括()

A.抗蚀剂的涂布

B.对准曝光

C.显影

D.其它选项都正确

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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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1天前
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B、前烘

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D、涂胶

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第9题
光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和正性光刻,负性光刻中采用的光刻胶是( )。

A、正性光刻胶

B、正性或负性光刻胶

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第10题
在一些需要多层金属层的VLSI工艺中,大多数半导体产商应用哪种金属作为上下金属层间的中间金属连接物。()

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B、铝

C、铜

D、钨

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