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提问人：网友huolang 发布时间：2022-01-07
[单选题]

以下关于减少Si-SiO2氧化层中的可动电荷的措施中错误的是（）。

A.热氧化后用氢氟酸腐蚀掉1000~2000Å的一层SiO2

B.用磷处理减少钠离子玷污的影响，因磷硅玻璃有“提取”及“阻挡”钠离子的作用

C.采用“无钠”清洁工艺

D.用LPCVD生长氮化硅作表面钝化

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1天前
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1天前
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1天前
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更多“以下关于减少Si-SiO2氧化层中的可动电荷的措施中错误的是（）。”相关的问题
第1题
以下关于减少Si-SiO2氧化层中的可动电荷的措施中错误的是()。
A、热氧化后用氢氟酸腐蚀掉1000~2000Å的一层SiO2

B、用磷处理减少钠离子玷污的影响，因磷硅玻璃有“提取”及“阻挡”钠离子的作用

C、采用“无钠”清洁工艺

D、用LPCVD生长氮化硅作表面钝化

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第2题
以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是()。
A、固定正电荷

B、Si-SiO2界面态

C、可动电荷

D、电离陷阱

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第3题
要减少Si-SiO2界面附近的固定正电荷,可通过退火,选用晶向()。
A、低温，(100)

B、低温，(111)

C、高温，(100)

D、高温，(110)

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第4题
MOS器件绝缘层中的可动电荷是（ ）

A、电子

B、空穴

C、钠离子

D、硅离子

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第5题
关于不同位置的氧化层电荷对阈值电压的影响,下列说法中正确的是()。
A、靠近栅极界面的电荷比靠近半导体界面的电荷影响更大

B、靠近半导体界面的电荷比靠近栅极界面的电荷影响更大

C、靠近栅极界面的电荷与靠近半导体界面的电荷的影响相同

D、靠近氧化层中间位置的电荷影响更大

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第6题
下面哪种方式是无法减少MOS器件的亚阈值摆幅()。

A、减少衬底掺杂浓度

B、减少SiO2/Si界面处的固定电荷密度

C、减少氧化层厚度

D、降低器件工作温度

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第7题
以下关于电场的叙述中，错误的是  (  )

A．两个未接触的电荷发生了相互作用，一定是电场引起的

B．只有电荷发生相互作用时才产生电场

C．只要有电荷存在，其周围就存在电场

D．甲电荷受到乙电荷的作用，是乙电荷的电场对甲电荷的作用

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第8题
平带电压（名词解释题）

平带电压

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第9题
铝不能从铝土矿中直接提取铝。
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第10题
关于氧化还原反应的描述,下列说法错误的是()。
A、氧化与还原是同时发生的

B、在氧化还原反应中，失去电子的物质发生了还原反应

C、氧化还原反应中得失电荷数相同

D、氧化剂被还原，发生还原反应

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